Hvad er tynd filmaflejring ved termisk fordampning?

En af de almindelige metoder til fysisk dampaflejring (PVD) er termisk fordampning. Dette er en form for tynd filmaflejring, som er en vakuumteknologi til påføring af belægninger Fordampning vakuumbeleveringsmaskinleverandører af rene materialer til overfladen af ​​forskellige genstande. Belægningerne, også kaldet film, er normalt i tykkelsesområdet for angstromer til mikron og kan være et enkelt materiale eller kan være flere materialer i en lagdelt struktur.
Materialerne, der skal påføres med termiske fordampningsteknikker, kan være rene atomelementer, herunder både metaller og ikke -metaller, eller kan være molekyler såsom oxider og nitrider. Objektet, der skal overtrækkes, kaldes underlaget og kan være en af ​​en lang række ting, såsom: halvlederskiver, solceller, optiske komponenter eller mange andre muligheder.

Termisk fordampning involverer opvarmning af et solidt materiale inde i et højt vakuumkammer og fører det til en temperatur, der producerer noget damptryk. Inde i vakuumet er selv et relativt lavt damptryk tilstrækkeligt til at hæve en dampsky inde i kammeret. Dette fordampede materiale udgør nu en dampstrøm, der krydser kammeret og rammer underlaget og klæber til det som en belægning eller film.
Da i tilfælde af termisk fordampningsprocesser opvarmes materialet til dets smeltepunkt og er flydende, er det normalt placeret i bunden af ​​kammeret, ofte i en slags lodret digel. Dampen stiger derefter over denne bundkilde, og underlagene holdes omvendt i passende inventar øverst i kammeret. Overfladerne, der er beregnet til at blive belagt, vender således ned mod det opvarmede kildemateriale for at modtage deres belægning.
STEPS