Magnetron sputtering vakuumbelægningsmaskine

Magnetron sputtering vakuumbelægningsmaskine

Et magnetron, der sputtering af vakuumbelægningssystem, bruger højenergiioner til at afsætte et tyndt lag materiale på et underlag. Processen er hurtig og billig og producerer en coating med høj renhed. Ioner med høj energi frigøres fra et kildemateriale og kolliderer med en inert gas, såsom argon. Disse ioner producerer et plasma, og atomer af kildematerialet skubbes ud.

Magnetron sputtering vakuumbelægningsmaskine bruges ofte i smykkerfremstilling. Dens roterende og stationære design kan let justeres for at imødekomme en lang række belægningskrav. Denne maskine er velegnet til belægning af ethvert metal eller ikke-metallisk underlag. Det kan også bruges til at belægge plastik, keramisk og krystalglas. Dens avancerede funktioner inkluderer god ensartethed og hurtige afsætningsgrader.

Et magnetron, der sputtering vakuumbelægningssystem, er et kraftfuldt og alsidigt værktøj til produktion med høj volumen. Afhængig af behovene og anvendelsen kan denne teknik skabe tynde film med en lang række ønskede egenskaber. Forskellige kraftsystemer, materialer og gasser kan bruges til at optimere processen. Inden processen begynder, monteres underlaget i indehaveren. Indehaveren passerer derefter gennem et belastningslåsekammer for at forhindre, at det bevæger sig.

Dette vakuumbelægningssystem er en billig metode, der producerer belægninger af høj kvalitet med en høj procentdel af pass renten. Det er ideelt til luftfart og avanceret elektronikproduktion. Det kan også bruges til legeringsbelægning og sammensatte metalfilm. Dette er en økonomisk og effektiv måde at beklæde mange typer materialer på.

Et magnetron -sputtering vakuumbelægningssystem bruger en sputterende kilde, der drager fordel af elektronindeslutning. Magneterne fanger elektroner på overfladen af ​​målet, hvilket resulterer i en højere plasmatæthed og højere afsætningshastigheder. I modsætning til konventionelle sputteringsmetoder er denne teknik sikker og forårsager ikke skade på belægningsobjektet.

Den sputteringgas, der bruges i processen, er en vigtig overvejelse. Den type gas, der skal bruges, afhænger af atomvægten af ​​underlaget. For eksempel drager lettere materialer fordel af brugen af ​​neon eller xenon. Hvis kammeret indeholder ilt, vil processen være reaktiv.

Sputteringsprocessen involverer at afsløre målmaterialet for reaktive gasser. Disse gasser reagerer med målmaterialet og skaber en molekylær forbindelse. Materialet deponeres derefter som en tynd filmbelægning. For eksempel, når et siliciummål er reaktivt sputteret med ilt eller nitrogen, producerer det siliciumoxid eller siliciumnitrid. Denne metode bruges ofte til at belægge flere materialer samtidigt.

Magnetron sputtering coating maskine

Multi-arc ion & sputtering belægninger kan deponeres i en lang række farver. Farverne kan forbedres yderligere ved at indføre reaktive gasser i kammeret under deponeringsprocessen. De vidt anvendte reaktive gasser til dekorative belægninger er nitrogen, ilt, argon eller acetylen. De dekorative belægninger produceres i et bestemt farveområde, afhængigt af metal-til-gas-forholdet i belægningen og strukturen af ​​belægningen. Begge disse faktorer kan ændres ved at ændre deponeringsparametrene.

Før deponering rengøres dele, så overfladen er fri for støv eller kemiske urenheder. Når belægningsprocessen er startet, overvåges og kontrolleres alle de relevante procesparametre kontinuerligt af et automatisk computerstyringssystem.

• Substratmateriale: glas, metal (kulstofstål, rustfrit stål, messing), keramik, plast, smykker.

• Strukturtype: Lodret struktur, #304 rustfrit stål.

• Belægningsfilm: Multifunktionel metalfilm, kompositfilm, gennemsigtig ledende film, reflektans-stigende film, elektromagnetisk afskærmningsfilm, dekorativ film.

• Filmfarve: Multifarver, pistol sort, titanium gylden farve, rose gylden farve, rustfrit stål farve, lilla farve, mørk sort, mørkeblå og andre flere farver.

• Filmtype: Tin, CRN, Zrn, Ticn, Ticrn, Tinc, Tialn og DLC.

• Forbrugsstoffer i produktion: Titanium, krom, zirkonium, jern, legeringsmål; planmål, cylindrisk mål, tvillingmål, modsat mål.