Hvad er forskellen mellem fordampende belægning og sputtering af belægning？- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Hvad er forskellen mellem fordampende belægning og sputtering af belægning？

Vakuumfordampningsfilm er at opvarme det materiale, der skal fordampes til en bestemt temperatur ved modstogsopvarmning eller elektronstråle- og laserbombardement i et miljø med en vakuumgrad på ikke mindre end 10-2PA, så den termiske vibrationsenergi af molekyler eller atomer i materialet overstiger overfladen. Derfor inddampes eller sublimeres et stort antal molekyler eller atomer og sublimeres og deponeres direkte på underlaget for at danne en tynd film. Ion -sputteringbelægning er at bruge den høje bevægelse af positive ioner genereret ved gasudladning under virkningen af et elektrisk felt til at bombardere målet som katoden, så atomerne eller molekylerne i målflugt og deponering på overfladen af emnet, der skal udmages, og danner den krævede film.

Den almindeligt anvendte metode til vakuumfordampningsbelægning er modstandens opvarmningsmetode, der har fordelene ved enkel struktur i opvarmningskilden, lave omkostninger og praktisk drift. Elektronstråleopvarmning og laseropvarmning kan overvinde manglerne ved modstandsopvarmning. Ved elektronstråleopvarmning bruges en fokuseret elektronstråle til direkte at opvarme det bombarderede materiale, og elektronstrålens kinetiske energi bliver termisk energi til at fordampe materialet. Laseropvarmning bruger en laser med høj effekt som en opvarmningskilde, men på grund af de høje omkostninger ved lasere med høj effekt kan den kun bruges i et par forskningslaboratorier.

Sputtering -teknologi adskiller sig fra vakuumfordampningsteknologi. "Sputtering" henviser til det fænomen, hvor energiske partikler bombarderer overfladen af et legeme (mål), hvilket får faste atomer eller molekyler til at blive kastet ud fra overfladen. Af de udsendte partikler er i atomtilstand, ofte kaldet sputterede atomer. De sputterende partikler, der bruges til bombardering af målet, kan være elektroner, ioner eller neutrale partikler, fordi ioner let accelereres under et elektrisk felt for at opnå den krævede kinetiske energi, så ioner bruges for det meste som bombarderingspartikler. Sputteringsprocessen er baseret på glødudladningen, det vil sige, at sputteringionerne stammer fra gasudladningen. Forskellige sputteringsteknikker bruger forskellige glødudladningsmetoder. DC to-polet sputtering bruger DC glødudladning; Tre-polet sputtering bruger glødudladning understøttet af varm katode; RF Sputtering bruger radiofrekvens glødudladning; Magnetron sputtering bruger glødudladning under kontrol af det ringformede magnetfelt. Lysudladning.

Sammenlignet med vakuumfordampningsbelægning har sputtering belægning mange fordele. For eksempel kan ethvert stof sputres, især elementer og forbindelser med højt smeltepunkt og lavt damptryk; God vedhæftning mellem den sputterede film og underlaget; høj filmdensitet; Kontrollerbar filmtykkelse og god gentagelighed. Ulempen er, at udstyret er mere kompliceret og kræver højspændingsenheder. Derudover kaldes kombinationen af fordampningsmetode og sputteringmetode ionbelægning. Fordelen ved denne metode er, at den opnåede film har stærk vedhæftning mellem underlaget og underlaget og har en høj afsætningshastighed og høj filmdensitet.

Grundlagt i 2007 som tidligere navn Huahong Vacuum Technology, er professionel Kina kontinuerlig magnetron sputtering maskiner leverandører and Kontinuerlige Magnetron Sputtering Machines Leverandører , herunder men ikke begrænset til sputteringssystemer, optiske belægningsenheder, batchmetallisatorer, fysiske dampaflejringssystemer (PVD), hårde og slidbestandige vakuumbelægningsaflejringsudstyr, glas, PE, PC-substratbelægninger, rulle-til-rulle-maskiner til belægning af fleksible underlag. Maskinerne bruges til en lang række applikationer beskrevet nedenfor (men ikke begrænset til) bilindustrien, dekorative, hårde belægninger, værktøjs- og metalskæringsbelægninger og tyndfilmbelægningsapplikationer til industrielle og laboratorier, herunder universiteter. Danko Vacuum Technology Company Ltd er forpligtet til at udvide vores markedsgrænser ved at levere højkvalitet, høje performance og pulsale kontinuerlige kontinuerlige magnetrons sputteringsmaskine. Vores virksomhed er meget fokus på eftersalgsservice på indenlandske og internationale markeder, hvilket leverer nøjagtige delbehandlingsplaner og professionelle løsninger til at møde kunders behov.

Dele: