Rengøringstrin af emnet inden belægning i vakuumbelægningsmaskine

For at forbedre vedhæftningen og glatheden af ​​den udpladede film på overfladen af ​​underlaget såvel som kompaktiteten af ​​filmen, før substratet hænges i vakuumbelægningsmaskinen, skal et foreløbigt rengøringstrin udføres for at fjerne oliepletterne, pletter, støv, for at sikre, at det er i en ren tilstog og derefter sammenbelægning.

1. Vakuumopvarmningsrensning

Arbejdsstykket opvarmes under normalt tryk eller vakuum. Fremme fordampningen af ​​flygtige urenheder på overfladen for at opnå formålet med rengøring. Rengøringseffekten af ​​denne metode er relateret til det omgivende tryk på emnet, længden af ​​retentionstiden i vakuumet, opvarmningstemperaturen, typen af ​​forurenende stoffer og materialet i emnet. Princippet er at varme emnet. Fremme de forbedrede desorption af vandmolekyler og forskellige carbonhydridmolekyler, der adsorberes på dens overflade. Graden af ​​desorptionsforbedring er temperaturafhængig. Under ultrahøj vakuum skal opvarmningstemperaturen være højere end 450 grader for at opnå atomisk rene overflader. Opvarmningsrensningsmetoden er især effektiv. Men nogle gange kan denne tilgang også have bivirkninger. Som et resultat af opvarmning kan det forekomme, at nogle kulbrinter samles i større agglomerater og på samme tid nedbrydes i kulstofrester

2. Ultraviolet bestråling af rengøring

Bruger UV -stråling til at nedbryde carbonhydrider på overfladen. For eksempel producerer eksponering for luft i 15 timer en ren glasoverflade. Hvis der er korrekt forfulgte overflader korrekt, anbringes i en ozongenererende UV-kilde. En ren overflade kan oprettes på få minutter (Process Clean). Dette indikerer, at tilstedeværelsen af ​​ozon øger rengøringsgraden. Rengøringsmekanismen er: Under ultraviolet bestråling er snavsmolekylerne begejstrede og dissocieret, og generering og eksistens af ozon producerer meget aktiv atomisk ilt. Spændte snavsemolekyler og frie radikaler genereret af snavs dissociation interagerer med atomisk ilt. Enklere og mere flygtige molekyler dannes. Såsom H2O3, CO2 og N2. Reaktionshastigheden øges med stigende temperatur.

3. rengøring af udledning

Denne rengøringsmetode er vidt anvendt til rengøring og afgasning af højvakuum og ultrahøj vakuumsystemer. Især brugt i vakuumbelægningsmaskiner. En varm ledning eller elektrode bruges som elektronkilde. Påføring af en negativ bias på overfladen, der skal rengøres, kan opnå gas desorption ved ionbombardement og fjernelse af visse kulbrinter. Rengøringseffekten afhænger af elektrodematerialet, geometrien og dets forhold til overfladen. Det vil sige, det afhænger af antallet af ioner og ionenergi pr. Enhedsoverfladeareal. Dermed afhænger det af den tilgængelige elektriske effekt. Vakuumkammeret er fyldt med en inert gas (typisk AR -gas) ved et passende delvis tryk. Rengøring kan opnås ved ionbombardement ved glødudladning ved lav spænding mellem to egnede elektroder. I denne metode. Den inerte gas ioniseres og bombarderer den indvendige væg i vakuumkammeret, andre strukturelle dele i vakuumkammeret og det underlag, der skal forplades, hvilket kan gøre nogle vakuumsystemer fritaget for bagning af høj temperatur. Bedre rengøringsresultater for nogle kulbrinter kan opnås, hvis der tilsættes ilt til den ladede gas. Fordi ilt kan oxidere visse kulbrinter til dannelse af flygtige gasser, der let fjernes af vakuumsystemet. Hovedkomponenterne i urenheder på overfladen af ​​rustfrit stål højt vakuum og ultrahøj vakuumfartøjer er kulstof og kulbrinter. Generelt kan kulstoffet i det ikke være flygtige alene. Efter kemisk rengøring er det nødvendigt at introducere AR eller AR O2 blandet gas til rengøring af glødudladning, så urenheder på overfladen og gasserne bundet til overfladen på grund af kemisk virkning fjernes. i rengøring af glødudladning. Vigtige parametre er den type påførte spænding (AC eller DC), størrelsen af ​​udladningsspændingen, den strømtæthed, den type gas, der oplades og trykket. Varigheden af ​​bombardementet. Formen på elektroderne og materialet og placeringen af ​​de dele, der skal rengøres osv.

4. gasskylning

(1) Nitrogenskylning

Når nitrogen adsorberes på overfladen af ​​materialet på grund af den lille adsorptionsenergi, er overfladetentionstiden kort. Selv hvis det adsorberes på enhedens væg, er det let at blive pumpet væk. Brug af denne egenskab ved nitrogen til at skylle vakuumsystemet kan i høj grad forkorte systemets pumpetid. For example, before the vacuum coating machine is put into the atmosphere, fill the vacuum chamber with dry nitrogen to flush it and then fill it into the atmosphere, the pumping time of the next pumping cycle can be shortened by nearly half, because the adsorption energy of nitrogen is far Smaller than water vapor molecules, after being filled with nitrogen under vacuum, nitrogen Molekyler adsorberes af vakuumkammervæggen. Da adsorptionsstedet er fast, er det fyldt med nitrogenmolekyler først, og der er meget få vandmolekyler, der adsorberes, hvilket forkorter pumpetiden. Hvis systemet er forurenet af olie -stænk af diffusionspumpen, kan nitrogenskylningsmetoden også bruges til at rengøre det forurenede system. Generelt, under bagning og opvarmning af systemet, kan skylning af systemet med nitrogengas eliminere olieforurening.

(2) Reaktiv gasskylning

Denne metode er især velegnet til intern vask (fjernelse af carbonhydridforurening) af store ultrahøjt vakuumbelægter i rustfrit stål. Normalt, for vakuumkamre og vakuumkomponenter i nogle store ultrahøj vakuumsystemer, for at opnå atomisk rene overflader, er standardmetoderne til eliminering af overfladeforurening kemisk rengøring, vakuumovns ristning, rengøring af glødudladning og originale energi-ristning vakuumsystemer og andre metoder. Rengørings- og afgasmetoderne beskrevet ovenfor bruges ofte før og under montering af et vakuumsystem. Når vakuumsystemet er installeret (eller efter at systemet er i drift), da de forskellige komponenter i vakuumsystemet er blevet fikseret, er det vanskeligt at degas de forskellige komponenter i vakuumsystemet. Når systemet er (ved et uheld) forurenet (hovedsageligt store atomnumre) molekyler, såsom carbonhydridforurening), demonteres og oparbejdes normalt inden installationen. Med den reaktive gasproces kan in-situ online-afgasning udføres. Fjern effektivt forureningen af ​​kulbrinter i vakuumkammeret i rustfrit stål. Dets rengøringsmekanisme: I systemet er oxidation af gas (O2, N0) og reducering af gas (H2, N H3) citeret i systemet for at udføre kemisk reaktionsrensning på metaloverfladen for at eliminere forurening for at opnå atomisk rene metaloverflader. Hastigheden af ​​overfladeoxidation/reduktion afhænger af forureningen og materialet på metaloverfladen. Overfladeaktionshastigheden styres ved at justere tryk og temperatur på reaktionsgassen. For hvert substrat bestemmes de nøjagtige parametre eksperimentelt. Disse parametre er forskellige for forskellige krystallografiske orienteringer.

Grundlagt i 2007 som tidligere navn Huahong Vacuum Technology, er professionel China Vacuum Accessoriess -leverandører and Vacuum Accessoriess -producenter , herunder men ikke begrænset til sputteringssystemer, optiske belægningsenheder, batchmetallisatorer, fysiske dampaflejringssystemer (PVD), hårde og slidbestandige vakuumbelægningsaflejringsudstyr, glas, PE, PC-substratbelægninger, rulle-til-rulle-maskiner til belægning af fleksible underlag. Maskinerne bruges til en lang række applikationer beskrevet nedenfor (men ikke begrænset til) bilindustrien, dekorative, hårde belægninger, værktøjs- og metalskæringsbelægninger og tynde filmbelægningsapplikationer til industrielle og laboratorier, herunder universiteter. Danko Vacuum Technology Company Ltd er forpligtet til at udvide vores markedsgrænser ved at tilvejebringe high-Quality, High-Performance og Wholesale Vacuum-tilbehør. Vores virksomhed er meget fokus på eftersalgsservice på indenlandske og internationale markeder, hvilket leverer nøjagtige delbehandlingsplaner og professionelle løsninger til at møde kunders behov.